立式真空清洗爐

立式真空爐是真空爐的一種，是在真空環(huán)境中加熱的設備。爐內加熱系統(tǒng)可以使用硅棒、硅鉬棒等加熱元件。

立式真空爐是真空爐的一種，是在真空環(huán)境下加熱的設備.爐內加熱系統(tǒng)可采用硅碳棒、硅鉬棒等發(fā)熱元件.一般用于陶瓷燒結、熔煉金屬耐火材料、退火、大學實驗室檢測等領域.爐膛真空度可達133×(10-2-10-4)h。

特點

1、控溫精度：±1℃爐溫均勻度：±1℃。

2、微型計算機全自動控制，可制作多段升降、保證、降溫曲線，全自動升溫、保溫、降溫和超溫保護，程序運行結束后自動停止，。

3、加熱快，節(jié)能高，精度高，穩(wěn)定性高，保溫性能好。

4、爐體溫度接近室溫，可通過多種氣體(氧、氮、氬、氫等)。

5、爐內全部采用進口摩根纖維，保溫性能好，耐熱震，耐高溫，耐冷熱。

6、水冷系統(tǒng):循環(huán)水冷(節(jié)能水源)。

7、溫度類別：1000℃1200℃1400℃1600℃1700℃1800℃。